Laboratorios de ensayo

433 - Laboratorio de Espectroscopía de Superficies Catalíticas en atmósfera controlada

OPI:	IMDEANANO
Centro:
Departamento:
Contacto:	Miguel Angel Niño Orti
Dirección:	C/ Faraday 9
Código Postal:	28049
Localidad:	Madrid
Teléfono:	912998769
Fax:
e-mail:	miguelangel.nino@imdea.org
web:	http://www.nanociencia.imdea.org/epitexial-growth-and-surface-reactivity/group-home
Categoría:	( Sin evaluar )
Información adicional:	Los servicios del Laboratorio de Espectroscopía de Superficies Catalíticas y Crecimiento Epitaxial en IMDEA Nanociencia se centran en el estudio de las propiedades de estructura electrónica y composición superficial de materiales moleculares y materiales inorgánicos en forma de películas ultradelgadas, con especial atención a las propiedades y procesos de materiales catalíticos de diversa índole. Para ello contamos con varias técnicas experimentales que nos permiten analizar: 1- La composición química de la superficie de una muestra conductora. 2- El estado electrónico de los elementos constituyentes de la Superficie. 3- La adsorción de diferentes gases en la superficie y su temperatura de desorción, y la evaporación de metales en superficie. Para ello disponemos de un sistema de fotoemision (XPS-UPS) en ultra alto vacío (UHV) para caracterización superficial, combinado con un sistema de espectroscopía de desorción térmica (TDS). Además de la caracterización superficial se puede estudiar la reactividad química de la superficie frente a la exposición a diferentes gases, así como depositar sobre la superficie recubrimientos metálicos (películas ultradelgadas de hasta 5 nm) mediante técnicas de crecimiento epitaxial (disponemos de evaporadores de bombardeo electrónico y celdas Knudssen).

Físicos Materiales en película delgada Determinación de composición elemental superficial Espectroscopia de fotoemisión de rayos X (XPS) Físicos Materiales en película delgada Determinación de estructura electrónica Espectroscopia de fotoemisión de ultravioleta (UPS) Físicos Materiales en película delgada Determinación de estructura superficial Difracción de electrones de baja energía (LEED) Físicos Materiales en película delgada Determinación de temperatura de desorción Espectroscopía de desorción térmica (TDS)

	Sistema de fotoemisión de rayos X (XPS) Ultra Alto Vacío		1486.7 eV (Al K-alfa)		-		Para películas delgadas de materiales metálicos, moleculares y óxidos
	Sistema de fotoemisión de rayos X (XPS) Ultra Alto Vacío		1486.7 eV (Al K-alfa)		-		Para películas delgadas de materiales metálicos, moleculares y óxidos
	Sistema de fotoemisión de Ultravioleta (UPS) en Ultra Alto Vacío		21 - 42 eV (HeI y HeII)		-		Para películas delgadas de materiales metálicos, moleculares y óxidos
	Sistema de fotoemisión de Ultravioleta (UPS) en Ultra Alto Vacío		21 - 42 eV (HeI y HeII)		-		Para películas delgadas de materiales metálicos, moleculares y óxidos
	Difractómetro de electrones de baja energía (LEED)		40 - 300 eV		-		Para películas delgadas de materiales metálicos, moleculares y óxidos
	Difractómetro de electrones de baja energía (LEED)		40 - 300 eV		-		Para películas delgadas de materiales metálicos, moleculares y óxidos
	Sistema de crecimiento de películas delgadas por MBE en vacío (UHV)		Espesores: 0-5 nanómetros		-		Evaporadores por bombardeo electrónico y celdas Knudssen para películas delgadas de metales y materiales moleculares
	Sistema de crecimiento de películas delgadas por MBE en vacío (UHV)		Espesores: 0-5 nanómetros		-		Evaporadores por bombardeo electrónico y celdas Knudssen para películas delgadas de metales y materiales moleculares
	Sistema de Desorción Térmica		30 - 300ºC		-		Desorción de gases en superficie, materiales moleculares
	Sistema de Desorción Térmica		30 - 300ºC		-		Desorción de gases en superficie, materiales moleculares
	Sistema de fotoemisión de rayos X (XPS) Ultra Alto Vacío		1486.7 eV (Al K-alfa)		-		Para películas delgadas de materiales metálicos, moleculares y óxidos
	Sistema de fotoemisión de rayos X (XPS) Ultra Alto Vacío		1486.7 eV (Al K-alfa)		-		Para películas delgadas de materiales metálicos, moleculares y óxidos
	Sistema de fotoemisión de Ultravioleta (UPS) en Ultra Alto Vacío		21 - 42 eV (HeI y HeII)		-		Para películas delgadas de materiales metálicos, moleculares y óxidos
	Sistema de fotoemisión de Ultravioleta (UPS) en Ultra Alto Vacío		21 - 42 eV (HeI y HeII)		-		Para películas delgadas de materiales metálicos, moleculares y óxidos
	Difractómetro de electrones de baja energía (LEED)		40 - 300 eV		-		Para películas delgadas de materiales metálicos, moleculares y óxidos
	Difractómetro de electrones de baja energía (LEED)		40 - 300 eV		-		Para películas delgadas de materiales metálicos, moleculares y óxidos
	Sistema de crecimiento de películas delgadas por MBE en vacío (UHV)		Espesores: 0-5 nanómetros		-		Evaporadores por bombardeo electrónico y celdas Knudssen para películas delgadas de metales y materiales moleculares
	Sistema de crecimiento de películas delgadas por MBE en vacío (UHV)		Espesores: 0-5 nanómetros		-		Evaporadores por bombardeo electrónico y celdas Knudssen para películas delgadas de metales y materiales moleculares
	Sistema de Desorción Térmica		30 - 300ºC		-		Desorción de gases en superficie, materiales moleculares
	Sistema de Desorción Térmica		30 - 300ºC		-		Desorción de gases en superficie, materiales moleculares

73.1 Investigación y desarrollo sobre ciencias naturales y técnicas 73.1 Investigación y desarrollo sobre ciencias naturales y técnicas 73.1 Investigación y desarrollo sobre ciencias naturales y técnicas 73.1 Investigación y desarrollo sobre ciencias naturales y técnicas

E- Materiales, Tecnologías de Fabricación E- Materiales, Tecnologías de Fabricación E-05 Química E-05 Química E-25 Metales , aleaciones E-25 Metales , aleaciones Y-04 Física Y-04 Física E- Materiales, Tecnologías de Fabricación E- Materiales, Tecnologías de Fabricación E-05 Química E-05 Química E-25 Metales , aleaciones E-25 Metales , aleaciones Y-04 Física Y-04 Física