|
MEB HITACHI S-4800 Con sistema de microanálisis EDS X-Max de Oxford |
|
Resolución: 1,0 nm (15 kV), 1.4 nm (1 kV) |
|
- |
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Para materiales |
|
MEB HITACHI S-4800 Con sistema de microanálisis EDS X-Max de Oxford |
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Resolución: 1,0 nm (15 kV), 1.4 nm (1 kV) |
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- |
|
Para materiales |
|
MEB JEOL J8M6500 , con sistema de microanálisis EDS Oxfor-LinK pentafet y EBSD de Oxford |
|
Resolución: 1,5 nm (15 kV), 5 nm (1kV) |
|
- |
|
Para materiales |
|
MEB JEOL J8M6500 , con sistema de microanálisis EDS Oxfor-LinK pentafet y EBSD de Oxford |
|
Resolución: 1,5 nm (15 kV), 5 nm (1kV) |
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- |
|
Para materiales |
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MEB HITACHI S2100 |
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Resolución: 6,0 nm a 15 kV |
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- |
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Para materiales |
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MEB HITACHI S2100 |
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Resolución: 6,0 nm a 15 kV |
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- |
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Para materiales |
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MET JEOL 2010, con EDS X-Max de Oxford |
|
200 kV y pieza polar HRP. Resolución: 0,25 nm (entre puntos) 0,14 nm (entre lineas). |
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- |
|
Para materiales |
|
MET JEOL 2010, con EDS X-Max de Oxford |
|
200 kV y pieza polar HRP. Resolución: 0,25 nm (entre puntos) 0,14 nm (entre lineas). |
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- |
|
Para materiales |
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Adelgazador iónico para muestras de TEM modelo FISCHIONE 1010: |
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- |
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Para preparación de muestras ionorgánicas para TEM |
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Adelgazador iónico para muestras de TEM modelo FISCHIONE 1010: |
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- |
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Para preparación de muestras ionorgánicas para TEM |
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Sputtering Spi |
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- |
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Recubrimineto de muestras no conductoras |
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Sputtering Spi |
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- |
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Recubrimineto de muestras no conductoras |
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Evaporador Jeol JEE 4B |
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- |
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Recubrimineto de muestras no conductoras |
|
Evaporador Jeol JEE 4B |
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- |
|
Recubrimineto de muestras no conductoras |
|
Máquina de adelgazamiento previo Gatan 656 |
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- |
|
Para preparaciion de muestras de TEM |
|
Máquina de adelgazamiento previo Gatan 656 |
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- |
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Para preparaciion de muestras de TEM |
|
Máquina de pulido electrolítico de doble chorro Struers |
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- |
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Para preparación de muestras metálicas de TEM, adelgazamiento final |
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Máquina de pulido electrolítico de doble chorro Struers |
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- |
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Para preparación de muestras metálicas de TEM, adelgazamiento final |
|
Cortadora de discos por ultrasonidos (Gatan Mod 601) |
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- |
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Para preparación de muestras para TEM |
|
Cortadora de discos por ultrasonidos (Gatan Mod 601) |
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- |
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Para preparación de muestras para TEM |
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Cortadoras de disco: por abrasión (South Bay Technology Mod 350) |
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- |
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Para preparación de muestras para TEM |
|
Cortadoras de disco: por abrasión (South Bay Technology Mod 350) |
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- |
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Para preparación de muestras para TEM |
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Criostato Lauda RK 20 |
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- |
|
Para preparación de muestras para TEM |
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Criostato Lauda RK 20 |
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- |
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Para preparación de muestras para TEM |
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Cortadora de disco Accutom 5 de Struerss |
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- |
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Para preparación de muestras de TEM y SEM |
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Cortadora de disco Accutom 5 de Struerss |
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- |
|
Para preparación de muestras de TEM y SEM |
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MEB HITACHI S-4800 Con sistema de microanálisis EDS X-Max de Oxford |
|
Resolución: 1,0 nm (15 kV), 1.4 nm (1 kV) |
|
- |
|
Para materiales |
|
MEB HITACHI S-4800 Con sistema de microanálisis EDS X-Max de Oxford |
|
Resolución: 1,0 nm (15 kV), 1.4 nm (1 kV) |
|
- |
|
Para materiales |
|
MEB JEOL J8M6500 , con sistema de microanálisis EDS Oxfor-LinK pentafet y EBSD de Oxford |
|
Resolución: 1,5 nm (15 kV), 5 nm (1kV) |
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- |
|
Para materiales |
|
MEB JEOL J8M6500 , con sistema de microanálisis EDS Oxfor-LinK pentafet y EBSD de Oxford |
|
Resolución: 1,5 nm (15 kV), 5 nm (1kV) |
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- |
|
Para materiales |
|
MEB HITACHI S2100 |
|
Resolución: 6,0 nm a 15 kV |
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- |
|
Para materiales |
|
MEB HITACHI S2100 |
|
Resolución: 6,0 nm a 15 kV |
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- |
|
Para materiales |
|
MET JEOL 2010, con EDS X-Max de Oxford |
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200 kV y pieza polar HRP. Resolución: 0,25 nm (entre puntos) 0,14 nm (entre lineas). |
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- |
|
Para materiales |
|
MET JEOL 2010, con EDS X-Max de Oxford |
|
200 kV y pieza polar HRP. Resolución: 0,25 nm (entre puntos) 0,14 nm (entre lineas). |
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- |
|
Para materiales |
|
Adelgazador iónico para muestras de TEM modelo FISCHIONE 1010: |
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- |
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Para preparación de muestras ionorgánicas para TEM |
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Adelgazador iónico para muestras de TEM modelo FISCHIONE 1010: |
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- |
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Para preparación de muestras ionorgánicas para TEM |
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Sputtering Spi |
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- |
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Recubrimineto de muestras no conductoras |
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Sputtering Spi |
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- |
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Recubrimineto de muestras no conductoras |
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Evaporador Jeol JEE 4B |
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- |
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Recubrimineto de muestras no conductoras |
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Evaporador Jeol JEE 4B |
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- |
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Recubrimineto de muestras no conductoras |
|
Máquina de adelgazamiento previo Gatan 656 |
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- |
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Para preparaciion de muestras de TEM |
|
Máquina de adelgazamiento previo Gatan 656 |
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- |
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Para preparaciion de muestras de TEM |
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Máquina de pulido electrolítico de doble chorro Struers |
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Para preparación de muestras metálicas de TEM, adelgazamiento final |
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Máquina de pulido electrolítico de doble chorro Struers |
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Para preparación de muestras metálicas de TEM, adelgazamiento final |
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Cortadora de discos por ultrasonidos (Gatan Mod 601) |
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Para preparación de muestras para TEM |
|
Cortadora de discos por ultrasonidos (Gatan Mod 601) |
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- |
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Para preparación de muestras para TEM |
|
Cortadoras de disco: por abrasión (South Bay Technology Mod 350) |
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Para preparación de muestras para TEM |
|
Cortadoras de disco: por abrasión (South Bay Technology Mod 350) |
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Para preparación de muestras para TEM |
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Criostato Lauda RK 20 |
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- |
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Para preparación de muestras para TEM |
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Criostato Lauda RK 20 |
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Para preparación de muestras para TEM |
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Cortadora de disco Accutom 5 de Struerss |
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Para preparación de muestras de TEM y SEM |
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Cortadora de disco Accutom 5 de Struerss |
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Para preparación de muestras de TEM y SEM |