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346 - Laboratorio de Microscopía Electrónica


OPI: CSIC
Centro: Centro Nacional de Investigaciones Metalúrgicas
Departamento: Metalurgia Física-Servicios Científico Técnicos
Contacto: Paloma Adeva Ramos
Dirección: Avda Gregorio del Amo, nº8
Código Postal: 28040
Localidad: Madrid
Teléfono: 91 5538900 Ext 332
Fax: 91 5347425
e-mail: adeva@cenim.csic.es
web: www.cenim.csic.es/dep/me/index3.htm
Categoría: Trazabilidad
Información adicional: El Laboratorio de Microscopía Electrónica del Cenim inicia su actividad con la adquisición del primer microscopio electrónico de barrido en el año 1971, un Jeol JX 50A con espectrómetros de longitud de onda para hacer microanálisis por rayos X. Desde entonces el laboratorio ha crecido tanto en equipamiento como en personal. Actualmente dispone de tres microscopios de barrido y uno de Transmisión de 200 kV, todos ellos con sistema de microanálisis de rayos X por dispersión de energía, EDS. Dos de los microscopios de barrido son de emisión de campo, uno de cátodo caliente y otro de cátodo frío y el tercero es de filamento convencional. Además, el microscopio de barrido de cátodo caliente tiene implementada además del microanálisis, la técnica de EBSD (Electron Backscattered Difraction). Así mismo, el laboratorio dispone de las técnicas de preparación de muestras tanto para la preparación de láminas delgadas para TEM como para hacer conductoras las muestras para observación al SEM. El principal objetivo de este laboratorio es colaborar en la caracterización microscópica y microanalítica de los materiales que se estudian tanto en los Proyectos y Contratos de Investigación que se llevan a cabo en el CENIM como en otros Institutos del CSIC y otros OPIs. Una tarea importante también de este laboratorio es la de realizar actividades de apoyo tecnológico a las empresas así como en la Restauración y Conservación del Patrimonio Histórico y Cultural. En cuanto al personal, el laboratorio cuenta con un responsable científico y dos técnicos.

Datos Ensayos
Tipo
Producto
Nombre
Método
Microscopía Materiales metálicos Análisis de fallos de piezas Microscopía electrónica de barrido (SEM)
Microscopía Materiales metálicos Caracterización microestructural Microscopía electrónica de barrido (SEM) y de transmisión (TEM)
Microscopía Materiales metálicos Determinación de la composición química de las diferentes fases Microanálisis de rayosX por dispersión de energía en SEM y TEM (EDS)
Microscopía Materiales metálicos Determinación de la naturaleza de productos de oxidación y corrosión Naturaleza de capas, productos SEM y EDS
Microscopía Materiales metálicos Determinación de tamaños de grano, microtextura y estructura cristalina de las fases presentes en fatiga Diagramas de difracción de electrones retrodispersados (EBSD)
Microscopía Materiales metálicos Preparación de muestras para SEM y TEM Cortadoras, evaporador, sputtering, adelgazador iónico, etc

Datos Equipos
Nombre
Rango
Incer
Observaciones
MEB HITACHI S-4800 Con sistema de microanálisis EDS X-Max de Oxford Resolución: 1,0 nm (15 kV), 1.4 nm (1 kV) - Para materiales
MEB HITACHI S-4800 Con sistema de microanálisis EDS X-Max de Oxford Resolución: 1,0 nm (15 kV), 1.4 nm (1 kV) - Para materiales
MEB JEOL J8M6500 , con sistema de microanálisis EDS Oxfor-LinK pentafet y EBSD de Oxford Resolución: 1,5 nm (15 kV), 5 nm (1kV) - Para materiales
MEB JEOL J8M6500 , con sistema de microanálisis EDS Oxfor-LinK pentafet y EBSD de Oxford Resolución: 1,5 nm (15 kV), 5 nm (1kV) - Para materiales
MEB HITACHI S2100 Resolución: 6,0 nm a 15 kV - Para materiales
MEB HITACHI S2100 Resolución: 6,0 nm a 15 kV - Para materiales
MET JEOL 2010, con EDS X-Max de Oxford 200 kV y pieza polar HRP. Resolución: 0,25 nm (entre puntos) 0,14 nm (entre lineas). - Para materiales
MET JEOL 2010, con EDS X-Max de Oxford 200 kV y pieza polar HRP. Resolución: 0,25 nm (entre puntos) 0,14 nm (entre lineas). - Para materiales
Adelgazador iónico para muestras de TEM modelo FISCHIONE 1010: - Para preparación de muestras ionorgánicas para TEM
Adelgazador iónico para muestras de TEM modelo FISCHIONE 1010: - Para preparación de muestras ionorgánicas para TEM
Sputtering Spi - Recubrimineto de muestras no conductoras
Sputtering Spi - Recubrimineto de muestras no conductoras
Evaporador Jeol JEE 4B - Recubrimineto de muestras no conductoras
Evaporador Jeol JEE 4B - Recubrimineto de muestras no conductoras
Máquina de adelgazamiento previo Gatan 656 - Para preparaciion de muestras de TEM
Máquina de adelgazamiento previo Gatan 656 - Para preparaciion de muestras de TEM
Máquina de pulido electrolítico de doble chorro Struers - Para preparación de muestras metálicas de TEM, adelgazamiento final
Máquina de pulido electrolítico de doble chorro Struers - Para preparación de muestras metálicas de TEM, adelgazamiento final
Cortadora de discos por ultrasonidos (Gatan Mod 601) - Para preparación de muestras para TEM
Cortadora de discos por ultrasonidos (Gatan Mod 601) - Para preparación de muestras para TEM
Cortadoras de disco: por abrasión (South Bay Technology Mod 350) - Para preparación de muestras para TEM
Cortadoras de disco: por abrasión (South Bay Technology Mod 350) - Para preparación de muestras para TEM
Criostato Lauda RK 20 - Para preparación de muestras para TEM
Criostato Lauda RK 20 - Para preparación de muestras para TEM
Cortadora de disco Accutom 5 de Struerss - Para preparación de muestras de TEM y SEM
Cortadora de disco Accutom 5 de Struerss - Para preparación de muestras de TEM y SEM
MEB HITACHI S-4800 Con sistema de microanálisis EDS X-Max de Oxford Resolución: 1,0 nm (15 kV), 1.4 nm (1 kV) - Para materiales
MEB HITACHI S-4800 Con sistema de microanálisis EDS X-Max de Oxford Resolución: 1,0 nm (15 kV), 1.4 nm (1 kV) - Para materiales
MEB JEOL J8M6500 , con sistema de microanálisis EDS Oxfor-LinK pentafet y EBSD de Oxford Resolución: 1,5 nm (15 kV), 5 nm (1kV) - Para materiales
MEB JEOL J8M6500 , con sistema de microanálisis EDS Oxfor-LinK pentafet y EBSD de Oxford Resolución: 1,5 nm (15 kV), 5 nm (1kV) - Para materiales
MEB HITACHI S2100 Resolución: 6,0 nm a 15 kV - Para materiales
MEB HITACHI S2100 Resolución: 6,0 nm a 15 kV - Para materiales
MET JEOL 2010, con EDS X-Max de Oxford 200 kV y pieza polar HRP. Resolución: 0,25 nm (entre puntos) 0,14 nm (entre lineas). - Para materiales
MET JEOL 2010, con EDS X-Max de Oxford 200 kV y pieza polar HRP. Resolución: 0,25 nm (entre puntos) 0,14 nm (entre lineas). - Para materiales
Adelgazador iónico para muestras de TEM modelo FISCHIONE 1010: - Para preparación de muestras ionorgánicas para TEM
Adelgazador iónico para muestras de TEM modelo FISCHIONE 1010: - Para preparación de muestras ionorgánicas para TEM
Sputtering Spi - Recubrimineto de muestras no conductoras
Sputtering Spi - Recubrimineto de muestras no conductoras
Evaporador Jeol JEE 4B - Recubrimineto de muestras no conductoras
Evaporador Jeol JEE 4B - Recubrimineto de muestras no conductoras
Máquina de adelgazamiento previo Gatan 656 - Para preparaciion de muestras de TEM
Máquina de adelgazamiento previo Gatan 656 - Para preparaciion de muestras de TEM
Máquina de pulido electrolítico de doble chorro Struers - Para preparación de muestras metálicas de TEM, adelgazamiento final
Máquina de pulido electrolítico de doble chorro Struers - Para preparación de muestras metálicas de TEM, adelgazamiento final
Cortadora de discos por ultrasonidos (Gatan Mod 601) - Para preparación de muestras para TEM
Cortadora de discos por ultrasonidos (Gatan Mod 601) - Para preparación de muestras para TEM
Cortadoras de disco: por abrasión (South Bay Technology Mod 350) - Para preparación de muestras para TEM
Cortadoras de disco: por abrasión (South Bay Technology Mod 350) - Para preparación de muestras para TEM
Criostato Lauda RK 20 - Para preparación de muestras para TEM
Criostato Lauda RK 20 - Para preparación de muestras para TEM
Cortadora de disco Accutom 5 de Struerss - Para preparación de muestras de TEM y SEM
Cortadora de disco Accutom 5 de Struerss - Para preparación de muestras de TEM y SEM

Códigos Cnae
Código
Descripción
27 Metalurgia y Fabricación de Productos Metálicos
27 Metalurgia y Fabricación de Productos Metálicos
27.5 Fundición de metales
27.5 Fundición de metales
36 Industrias Manufactureras Diversas
36 Industrias Manufactureras Diversas
27 Metalurgia y Fabricación de Productos Metálicos
27 Metalurgia y Fabricación de Productos Metálicos
27.5 Fundición de metales
27.5 Fundición de metales
36 Industrias Manufactureras Diversas
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Áreas Científicas
Código
Descripción
E- Materiales, Tecnologías de Fabricación
E- Materiales, Tecnologías de Fabricación
E-21 Manipulación de materiales
E-21 Manipulación de materiales
E-25 Metales , aleaciones
E-25 Metales , aleaciones
E-43 Tratamiento de superficies
E-43 Tratamiento de superficies
E- Materiales, Tecnologías de Fabricación
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E-21 Manipulación de materiales
E-21 Manipulación de materiales
E-25 Metales , aleaciones
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E-43 Tratamiento de superficies
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